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淺談鍍氧化鋁膜

2022-09-13 14:40來源:蒂姆(北京)新材料科技有限公司作者:蒂姆(北京)新材料科技有限公司網址:http://www.forsterkuechen.com瀏覽數:117
文章附圖

1、氧化鋁基本性能參數



2、鍍氧化鋁膜的特點

3、鍍氧化鋁膜的方法

 鍍氧化鋁膜的方法主要分為物理氣相沉積(PVD)和化學氣相沉積(CVD),其中物理氣相沉積主要有蒸鍍法和磁控濺射法,蒸鍍法根據加熱方式不同分為電阻加熱、高頻感應加熱和電子束加熱三種,其中電阻加熱的溫度可達1600℃,而電子束和高頻感應加熱可達3000℃。磁控濺射法相比于蒸鍍法,其膜層與基材結合力強、膜層致密性及均勻性好。

化學氣相沉積主要以等離子體增強化學沉積法(PECVD)為主。PECVD是利用等離子體產生電子、活性基團,在基體表面進行化學反應,以薄膜或粉末形式沉積于基材表面,從而在基材薄膜上沉積一層氧化物膜。其中,進入的等離子氣體(氬氣)和反應氣體(氧氣)的體積比為100:20時薄膜的成分接近于Al2O3。

4、鍍氧化鋁膜的影響因素

影響氧化鋁膜性能的因素主要包括基材的選擇、蒸鍍原材料、基材溫度、真空度等。其中,基材溫度越高,越有利于形成均勻、致密的鍍膜層。塑料薄膜在允許的使用溫度范圍內,隨著溫度升高,其熱穩定性會降低,如果在高溫高張力下的基材表面蒸鍍氧化鋁薄膜,冷卻至環境溫度的過程中基材收縮較大,而氧化鋁膜的收縮率小,嚴重時會出現氧化鋁膜層和塑料膜層分層、直至脫落。

5、氧化鋁膜具有阻隔性的原因

不飽和的ALOx與基膜表面游離O形成飽和ALOx,形成對稱穩定結構

②ALOx與基膜表面未飽和H形成H—O鍵,形成致密結構

非極性的H2O、O2等分子不易與極性的ALOx薄膜吸附,且ΔH<0



蒂姆(北京)新材料科技有限公司

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